L'hexafluoroéthane est un gaz incolore et inflammable, insoluble dans l'eau mais soluble dans l'éthanol. Son point d'ébullition est de -78.2°C, son point de fusion de -100.6°C et sa température critique de 19.7°C. L'hexafluoroéthane est généralement utilisé pour le gaz de gravure au plasma dans l'industrie de la microélectronique, ainsi que pour le nettoyage de la surface des dispositifs, la production de fibres optiques et la réfrigération à basse température.
L'hexafluoroéthane est utilisé pour la gravure sèche du dioxyde de silicium et pour le décapage de la résine photosensible.
L'hexafluoroéthane est utilisé comme réfrigérant dans certaines applications à basse température et comme composant dans certains mélanges de réfrigérants.
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